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如何控制真空爐的爐溫？

真空爐的溫度控制系統(tǒng)主要由可控硅觸發(fā)勵(lì)磁設(shè)備、單片機(jī)模糊控制器、熱電偶傳感器、磁性調(diào)壓器和記錄儀組成，與被控目標(biāo)(真空加熱室內(nèi)鉬絲加熱器)一起構(gòu)成直接數(shù)字控制。(ddc)該系統(tǒng)，整個(gè)控制構(gòu)成了閉環(huán)微調(diào)系統(tǒng)。

爐體恒溫區(qū)配有溫度測(cè)量電偶，前蓋配有調(diào)查孔，后蓋配有微調(diào)屏。加熱室上側(cè)面有通風(fēng)孔，冷卻工件時(shí)有分流效果。加熱室由鉬制數(shù)據(jù)、不銹鋼、陶瓷和硅酸鋁纖維氈組成。加熱器由多個(gè)鉬絲捆綁而成，沿爐體軸線(xiàn)方向和直方向均勻分布。根據(jù)設(shè)置技術(shù)曲線(xiàn)和檢測(cè)信號(hào)的對(duì)比，真空爐單片機(jī)通過(guò)模糊控制算法進(jìn)行模糊推理，然后宣布控制信號(hào)，通過(guò)可控硅觸發(fā)設(shè)備控制可控硅的導(dǎo)通角，然后控制輸出電壓，然后通過(guò)可調(diào)電流進(jìn)行調(diào)節(jié)。